清华大学取得新成果，有望解决光刻机难题，国产芯片未来可期

放眼全球光刻机制造领域，荷兰ASML是当之无愧的第一巨头。ASML一台EUV光刻机卖价十多亿，可即便如此台积电和三星依旧会抢着购买。

不仅在市场份额上远超竞争对手，ASML对自己的技术优势也相当自信。ASML曾扬言，即便把EUV光刻机的图纸公开，也没有一家企业能够自己制造出来。

这并非ASML吹嘘，因为事实的确如此。EUV光刻机集成了多个领域的尖端技术，而且零部件来源于各行业的顶级供应商，组装难度之大可想而知。

正因如此，昔日巨头佳能、尼康等才一直甘居其后；中国的光刻机制造龙头企业上海微电子，也仅仅是攻克了28nm的光刻机。

但这并不意味着，我国会情愿让核心技术继续掌握在外企手中。

故而，在2020年下半年，中科院曾公开宣布，要集结全院之力攻克光刻机制造难题，帮助中国企业摆脱卡脖子的命运。

时至今日，中科院虽然没有传出相关好消息，但清华大学却公布了最新的研究成果。据了解，这项成果有望解决光刻机难题，让国产芯片未来可期。

2月25日，清华大学工物系教授唐传祥研究组的，一篇有关新型粒子加速器光源“稳态微聚束”的研究论文，被发表在国际权威杂志《Nature》上。

同时，清华大学官网也公开了这个好消息。

笔者了解到，这关系到一项全新的光刻机光源技术。

众所周知，目前全球掌握极紫外光源解决方案的只有美国和德国两家，而ASML采用的正是美国的解决方案。

但无论是美国还是德国的极紫外光源解决方案，都存在着稳定性和寿命两大问题。这是由于方案需要不断激发滴落的锡滴，而锡又具有挥发性。故而光源功率的提升难度相对较大。

反观清华大学与合作团队研究的方案，则是利用可控电子束来辐射极紫外光的方式，取代靠激发锡来发光。

相比美国的方案，清华大学的研究成功在理论上具备更高的稳定性，也更容易提升光源功率。

如果这个解决方案能够最终落地并实现商用，那么国产光刻机或许真的可以弯道超车，不再受美国的限制。

不过，这个实现的过程中，可谓是千难万险。笔者相信，一旦国产光刻机实现自研，未来国产芯片将有无限的可能。但在此之前，我国相关产业面临的挑战依旧严峻。