国产光刻机迎来突破，清华大学宣布结果，可尴尬的问题还是来了！

国产光刻机，终于迎来了突破！

现在国内光刻机是什么水平呢？是180nm水平，但是台积电、三星已经是5nm甚至开始3nm的研发，被寄以厚望的上海微电子即便是今年能够成功交付国产光刻机，那也只是28nm，这个先进光刻机，差了有点远。

于是国内期待“弯道超车”的心态就更加明显，比如华为刚发布一条光刻机的招聘就有传言说华为2万人“闭关修炼”只为光刻机，甚至中科院刚将光刻机列为任务清单，就传来光刻机即将突破。

我们一边在不信，一边又在期待着，因为我们太需要光刻机，也太需要突破了。就像几十年前的上海微电子总经理贺荣明带着一众人前往欧洲、美国学习时，人家工程师看到我们就说，哪怕是给到你们图纸，都造不出光刻机。心里不爽的贺荣明自然是要证明自己的实力，但后来经过多年的努力，发现光刻机确实太难。那么难道国产光刻机就没有希望了吗？就找不到突破点了吗？而近期清华大学传来一个消息，让不少网友看到了希望，可尴尬的问题还是来了！

清华大学攻克光刻机核心技术！

清华大学近期公开一项研究，研发出了一种新型粒子加速器光源“稳态微聚束”（SSMB），什么意思呢？就是清华大学找到了一种别样的光源，而这个光源是优于此前EUV光刻机所采用的光源。

我们都知道光刻机更多的是像一把“刻刀”，所采用的光源极为重要，如今是5nm、3nm今后对光源的要求也就越来越高！

而清华大学的这一次突破，是找到了具有高功率、高重频、窄带宽的特性光源，这将大大提升造芯的效率和质量。

尽管来说现在这项技术还在实验室，但依然值得为这些科研工作者点赞。

国产光刻机的尴尬点在于什么？

国内是近些年才入局光刻机的吗？并不是，早在1956年我们就开始入局半导体领域，而在光刻机方面也是取得了不小的成绩，那个时候荷兰ASML公司还没有成立。

但是即便是入局早、有成绩，还是经不住“造不如买”的思想，于是就那么搁置了。

老美为啥能够说断供就能断供芯片？为啥我们想自研就开始那么难？为啥英伟达收购Arm时我们极力反对？因为很多生态，都建立在“别人”基础上。

就类似，别人建好地基，我们只是往上放了砖头水泥。

其实早在2015年的时候就有消息称国产光刻机曾经送给国内一家晶圆厂，但是后来这个光刻机在厂房闲置，都落满了灰。

为啥不用？是不想用吗？其实并不是，而是前面我们提到的生态，一台国产光刻机和其他供应关系替换，这就像拿B型血给A型血的人输血，这，很难！

但国内半导体也在积极发展属于自己的供应链，比如华为在上海建厂，比如中芯开始14甚至是7nm芯片，国家也将集成电路作为科研重要的目标，甚至给出2025年实现芯片自给率70%的目标，当国内半导体产线都在慢慢改变时，属于我们自己的时代也就来了！